国产高端光刻机再突破:上海芯上微装首台350nm步进光刻机发运
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(来源:IT之家)
IT之家 11 月 26 日消息,上海芯上微装科技股份有限公司(AMIES)昨日宣布:公司自主研发的首台 350nm 步进光刻机(AST6200)正式完成出厂调试与验收,启程发往客户现场。
芯上微装表示,这标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破!这不仅是一次产品的交付,更是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的重要里程碑。

据官方介绍,AST6200 光刻机是芯上微装基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀,倾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备,专为功率、射频、光电子及 Micro LED 等先进制造场景量身定制。

▲ 芯上微装首台 350nm 步进光刻机(AST6200) 核心性能亮点
高分辨率成像满足先进工艺需求,搭载大数值孔径投影物镜,结合多种照明模式与可变光瞳技术,实现 350nm 高分辨率,满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。
高精度套刻配置高精度对准系统,实现正面套刻 80nm,背面套刻 500nm,确保多层图形精准套刻,提升器件良率。
高产率设计,显著降低拥有成本(COO):
强工艺适应性,兼容多材质、多形态基底:
100% 软件自主可控打造全栈国产生态:AST6200 搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统,从底层驱动到上层工艺管理,实现完全自主主权,且具备强大的工艺扩展性与远程运维能力。
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